电子行业用水设备--反渗透设备--山东川一

电子工业用**纯水概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、**大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
  
  
电子行业制备**水的工艺大致分成以下几种： 　　 1、采用离子交换方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点 　　 2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→**级反渗透 →PH调节→中间水箱→*二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点 　　 3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点    充分结合了我国水质特点，设计规范和实际运行经验。设备配置系列化，产水量设计合理，覆盖范围广，选型方便，是具有当代国际先进水平，适合我国使用条件的新一代软水器。  特点： 1、自动化程度高，供水稳定，*人工干预。 2、效果好、能耗低，运行费用经济； 3、操作维护简单，占地面积小，使用寿命长，节省投资。 4、无须再生,比传统的离子交换处理法运行成本低1/3 - 2/3. 技术参考： 1、工作压力：0.2-0.6Mpa；较佳为0.3Mpa； 2、脱盐率:大于95%； 3、原水水温：5℃-50℃; 4、电源：AC220V/380V，50Hz；  5.软水机出口处应设计贮水箱，贮水箱体积≥产水量×3小时